一种基于背景抑制的后验概率图像跟踪方法-精密微纳制造技术全国重点实验室

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专利名称：	一种基于背景抑制的后验概率图像跟踪方法
专利号（申请号）：	ZL200810018348.8
批准日期（申请日期）：	2010.01.20
批准部门：	国家知识产权局
发明人姓名：	冯祖仁, 吕娜, 苏家全, 陈火健, 刘锁山
专利类型：	已授权
成果描述：