一种降低光固化快速原型件表面粗糙度的方法-精密微纳制造技术全国重点实验室

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专利名称：	一种降低光固化快速原型件表面粗糙度的方法
专利号（申请号）：	ZL200710018183.X
批准日期（申请日期）：	2010.07.15
批准部门：	国家知识产权局
发明人姓名：	李涤尘, 同颖稚, 吴海华
专利类型：	已授权
成果描述：