大面积周期阵列三维微结构制备方法-精密微纳制造技术全国重点实验室

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专利名称：	大面积周期阵列三维微结构制备方法
专利号（申请号）：	ZL200710015200.4
批准日期（申请日期）：	2010.01.27
批准部门：	国家知识产权局
发明人姓名：	兰红波, 丁玉成
专利类型：	已授权
成果描述：