中文名称：双面对准曝光机
型号规格：ABM/6/350/NUV/DCCD/M
负责人：王永录
E-mail：wangyonglu@mail.xjtu.edu.cn
生产厂商：美国 ABM Inc.
机器状态：正常
对外服务：是
联系电话：83395005
所在地点：曲江校区西五楼微纳制造实验室
设备预约
主要性能指标：
＊光强均匀性：
主要功能：
应用领域： 电子封装（晶片凸点和晶片级CSP） 光电设备（LED，激光二极管，CMOS，光栅，波导阵列） 探测器（CCD，近/远 红外，实时X射线） MEMS光刻和MOEMS设备显示器（LCD，TFT-LCD及OLED的光刻） 适用感光层： 适用与各种类型的光刻胶及Dry-film，BCB，Polyimide，SU-8 适用G，H，I线及深紫外曝光 适用基材半导体材料： Si，SiGe，SOI，SOS，GaAs，InP，InSb，CZT，石英，玻璃 Flex，Rigid substrates(FR-4，BT-epoxy)，Kapton，Metal
