仪器设备

首页  >  仪器设备  >  微纳研究中心  >  正文

中文名称:双面对准曝光机

型号规格:ABM/6/350/NUV/DCCD/M

负责人:王永录

E-mail:wangyonglu@mail.xjtu.edu.cn

生产厂商:美国 ABM Inc.

机器状态:正常

对外服务:

联系电话:83395005

所在地点:曲江校区西五楼微纳制造实验室

设备预约

主要性能指标:

*光强均匀性:

主要功能:

应用领域: 电子封装(晶片凸点和晶片级CSP) 光电设备(LED,激光二极管,CMOS,光栅,波导阵列) 探测器(CCD,近/远 红外,实时X射线) MEMS光刻和MOEMS设备显示器(LCD,TFT-LCD及OLED的光刻) 适用感光层: 适用与各种类型的光刻胶及Dry-film,BCB,Polyimide,SU-8 适用G,H,I线及深紫外曝光 适用基材半导体材料: Si,SiGe,SOI,SOS,GaAs,InP,InSb,CZT,石英,玻璃 Flex,Rigid substrates(FR-4,BT-epoxy),Kapton,Metal